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離子鍍是一種物理氣相沉積技術(shù)，通常在低氣壓氣體放電等離子體環(huán)境中進(jìn)行，也稱為離子氣相沉積。離子鍍不僅可以鍍單單一金屬和合金，而且還可以獲得電鍍和化學(xué)鍍所不能得到的金屬與非金屬化合物鍍層。此鍍層的硬度和耐磨性極高，若用于刀具，可以大幅度提高刀具的切削速度和使用壽命，還可以改善切削過程，提高加工精度。在一般情況下離子鍍的鍍層很薄，所以常將離子鍍的鍍層稱為鍍膜。更重要的是，真空蒸鍍和濺射鍍膜傳統(tǒng)的蒸鍍以及濺射鍍膜都主要利用中性粒子成膜，在膜層粒子到達(dá)基片時的速度較低，因而會產(chǎn)生諸如沉積速率低、膜層附著力差、膜層不致密等問題，而離子鍍可以很好解決上述問題。

離子鍍技術(shù)原理。離子鍍技術(shù)采用專用設(shè)備和特定的水性化學(xué)原材料，應(yīng)用化學(xué)反應(yīng)的原理通過直接噴涂的方式達(dá)到電鍍的效果，使得被噴物體表面呈現(xiàn)鉻色、鎳色、金以及各種色彩漸變色等鏡面高光效果。

離子鍍技術(shù)分類。根據(jù)膜層粒子的獲得方式，離子鍍可以分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發(fā)型離子鍍又根據(jù)放點原理不同可以分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。直流二級離子鍍，通過穩(wěn)定的輝光放點，空心陰極離子鍍和熱絲弧離子鍍，都是熱弧光放電，而陰極電弧離子鍍放電類型最特殊，采用了冷弧光放電。在眾多離子鍍技術(shù)中陰極電弧離子鍍是集大成者，目前逐漸發(fā)展為硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域的主力。首先，帶有正電位的引弧針靠近帶有負(fù)電位的靶材，陰陽兩極之間距離足夠小的時候，兩極之間的氣體會被擊穿，形成胡電流，此時，部分氮氣發(fā)生離化，形成氮的陽離子以及電子。受到電場力的吸引，接下來氮的陽離子會飛翔陰極靶材附近，而電子會飛向引弧針，當(dāng)電子到達(dá)陽極時，粒子將不能到達(dá)陰極靶面，二是在距離靶面較近的位置富集，形成正離子堆積層。接下來電子會飛向正離子堆積層，形成電流，堆積層和靶面被導(dǎo)通，在靶面附近產(chǎn)生電弧，蒸發(fā)了靶材，同時吸引正離子，產(chǎn)生濺射。